Инжекторы быстрых атомов водорода

Main
Physics - Plasma Physics
Инжекторы быстрых атомов водорода

Инжекторы быстрых атомов водорода

Семашко Н.Н., Владимиров В.В., Кузнецов В.В., Кулыгин В.М., Панасенков А.А.

0 / 0

Πόσο σας άρεσε αυτό το βιβλίο;

Ποια είναι η ποιότητα του ληφθέντος αρχείου;

Κατεβάστε το βιβλίο για να αξιολογήσετε την ποιότητά του

Ποια είναι η ποιότητα των ληφθέντων αρχείων;

Κατηγορίες:

Physics - Plasma Physics

Έτος:

1981

Εκδότης:

Энергоиздат

Γλώσσα:

russian

Σελίδες:

170

ISBN 10:

1704040000

ISBN 13:

9781704040004

Αρχείο:

DJVU, 3.11 MB

IPFS:

,

russian, 1981

Διαβάστε online

Η μετατροπή σε βρίσκεται σε εξέλιξη

Η μετατροπή σε απέτυχε

Ίσως σας ενδιαφέρει

— Итоги науки и техники. Физика плазмы

Жданов — Физика плазмы

Барнет К., Харрисон М. — Прикладная физика атомных столкновений. Плазма

Романовский Е.А., Коваль А.Г., Мельничук И.А., Борисов А.Г., Бажин А.И., Рыжов В.Н., Дробнич В.Г., Медведев С.Ю., Поп С.С., Есаулов В.А., Петухов В.П., Мирахмедов М.Н., Шароди И.С., Бандурин Ю.А., Белых Л.С., Дащенко А.И., Грицына В.В. И др. — Взаимодействие ионов с поверхностью. Материалы XII международной конференции 5-8 октября 1995 г. Том 2

Битнер Л.Р. — Вакуумная и плазменная электроника

Габович М Д — Физика и техника плазменных источников ионов

Крапивина С.А. — Основы плазмохимии. Выпуск I

Крейндель Ю.Е. — Плазменные источники электронов

Гасанов И.С. — Плазменная и пучковая технология

Грановский В.Л. — Электрический ток в газе. Установившийся ток

Фортов В.Е. (ред.) — Энциклопедия низкотемпературной плазмы. Газовые и плазменные лазеры

Фортов В.Е. (ред.) — Энциклопедия низкотемпературной плазмы

Битнер Л.Р. — Вакуумная и плазменная электроника

Паперный В.Л., Черных А.А., Шкляев В.А. — Влияние объемного заряда на энергетический спектр многокомпонентного ионного пучка

Аксенов А.И., Носков Д.А. — Процессы лазерной и электронно-ионной технологии

Горшков О.Н., Михайлов А.Н., Васильев В.К. — Применение методов резерфордовского обратного рассеяния ионов и ионно-индуцированного рентгеновского излучения для анализа элементного состава и структурного совершенства твердых тел

Козлов Н.П., Морозов А.И. (ред.). — Плазменные ускорители и ионные инжекторы

Бобыль А.В., Карманенко С.Ф. — Физико-химические основы технологии полупроводников

Колесник В.П., Колесник В.В. — Технологические генераторы плазмы

Григорьев Ф.И. — Осаждение тонких пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники

Петухов В.Ю., Гумаров Г.Г. — Ионно-лучевые методы получения тонких пленок

Достанко А.П. и др. — Технологические процессы и системы в микроэлектронике: плазменные, электронно-ионно-лучевые, ультразвуковые

Андреев В.В. и др. — Физика газового разряда и ее современные приложения

Юрьева А.В., Ковальчук А.Н. — Введение в плазменные технологии и водородную энергетику

coll. — Над чем думают физики - Физика атомного ядра и плазмы

— Физика плазмы - 01

— Физика плазмы - 01

— Физика плазмы - 03

— Физика плазмы - 05

Веденов А.А. — Задачник по физике плазмы

Габович М.Д., Плешивцев Н.В., Семашко Н.Н. — Пучки ионов и атомов для управляемого термоядерного синтеза и технологических целей

Леонтович М.А. (ред.) — Физика плазмы и проблема управляемых термоядерных реакций

Форрестер А.Т. (Forrester) — Интенсивные ионные пучки

Гришин С.Д., Лесков Л.В., Козлов Н.П. — Электрические ракетные двигатели

Барнет К., Харрисон М. (ред.)(Barnett,Harrison) — Прикладная физика атомных столкновений. Плазма

Φράσεις κλειδιά

инжектора

отрицательных

источника

электронов

плотность

плотности

напряжения

положительных

водорода

мощности

определяется

электрода

магнитного

источников

источник

составляет

поверхности

электродов

электропитания

доускорения

распределение

энергией

электрод

расходимости

получения

устройства

мощность

напряжение